由越南部队工业电信集团（Viettel）主导设置装备摆设的越南首坐半导体前端晶圆厂，原本规划于2027年末完成设置装备摆设并启动试出产，但路透社最新动静显示，这一时间表已经难以包管。

越南试图补齐本土芯片制造短板的 一号工程 ，正面对较着延期危害。由越南部队工业电信集团（Viettel）主导设置装备摆设的越南首坐半导体前端晶圆厂，原本规划于2027年末完成设置装备摆设并启动试出产，但路透社最新动静显示，这一时间表已经难以包管。

工地仍被野草笼罩

该项目位在河内及乐高科技园区，占地27公顷。2026年1月，Viettel曾经于此进行开工典礼，并对于外开释出越南半导体财产迈向制造环节的旌旗灯号。但路透社近期实地探寻发明，现场还没有呈现厂房东体，地块仍以野生植被为主。Planet Labs及空客于本年1月与10月拍摄的卫星图象也显示，该区域未形成本色性施工进展。

这与越南官方此前设定的节拍存于落差。根据最初计划，工场将于2027年末完成设置装备摆设与技能转移，2028至2030年继承完美工艺流程，并面向航空航天、电信、汽车等范畴提供芯片。

光刻机采购未落地

项目推进缓慢的要害缘故原由之一，是焦点装备采购还没有敲定。多名知恋人士吐露，Viettel与荷兰装备商ASML就采购深紫外（DUV）光刻机已经构和数月，但至今没有告竣和谈。

DUV光刻机是晶圆制造中的要害装备，用在将电路图案转移到硅片上。今朝外界尚不清晰两边构和的详细型号，也未明确该采购是否会遭到荷兰出口管束政策影响。装备型号差别，不仅瓜葛到合规门坎，也会直接影响项目成本。越南官方此前预估，这座晶圆厂投资范围约13亿美元。

此外，ASML近期也暗示，受AI需求拉动，其进步前辈装备于将来两年可能没法彻底满意市场需求，不外较成熟装备的供给压力相对于较小。这对于越南项目而言象征着，即便终极可以或许采购到装备，交付节拍也可能存于不确定性。

32纳米方针激发存眷

技能线路方面，Viettel于本年1月宣布的质料中曾经提到，工场规划采用32纳米制程。对于在一家初次进入芯片制造范畴的企业而言，这一方针其实不守旧。

作为参照，印度塔塔电子与力积电互助的晶圆厂项目投资额高达110亿美元，早期计划仍从55纳米及90纳米起步，再慢慢引入28纳米。今后，Viettel官网已经删除了有关32纳米的表述，公司也未披露是否与具有成熟制造经验的晶圆厂开展技能互助。

除了了装备问题，Viettel自身经验短板也不容轻忽。该集团此前重要从事电信运营及国防电子营业，并未拥有成熟晶圆厂设置装备摆设与运营经验。从干净室尺度、产线工艺到良率治理，晶圆制造都需要持久堆集，难以于短期内补齐。

与此同时，项目还有面对资金落地慢的问题。知恋人士称，Viettel于得到当局专项资金撑持时碰到行政步伐障碍，致使前期园地平整及基础施工遭到影响。对于在一座高度依靠政策资金及跨部分协调的项目而言，审批节拍一旦放缓，总体进度就会被较着拉长。

半导体系体例造环节难度更高

越南并不是没有半导体财产基础。英特尔、安靠、韩美半导体等企业于越南设有封装测试举措措施，三星也规划设置装备摆设芯片测试举措措施。但越南现有上风重要集中于封装、测试等附加值相对于较低的环节，芯片制造仍是财产链中最单薄的一环。

于《越南半导体微芯片财产成长战略草案》中，越南当局明确计划到2030年，要将越南打造成为全世界半导体芯片财产的设计、封装及测试中央，至少拥有一座晶圆厂及10座封测厂，并致力在于2050年实现年营收范围达1000亿美元以上的持久方针。（点击回首）首坐本土晶圆厂原本被视为实现这一方针的要害支点，但今朝来看，装备采购、工程经验、资金审批及技能线路都仍待厘清，越南从封测基地迈向晶圆制造的进级之路，比外界此前预想的更为艰巨。

面临外界质疑，Viettel仍暗示项目 正根据既定规划及进度推进 ，相干事情将分阶段开展，并会于适量时辰宣布更多信息。但于要害装备不决、工地未见本色性设置装备摆设的环境下，2027年试出产方针可否实现，已经存于较年夜不确定性。

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